Atis - V

Вакуумное технологическое оборудование Atis 500-V предназначено для нанесения металлических покрытий методом магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очиствкой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 400°С.

Технические характеристики

Наименование параметра

Значение

Размеры обрабатываемых подложек, мм

48х60х1,0; 48х60х0,5; 48х60х0,25; 30х24х0,3; 30х24х0,2

Материал обрабатываемых подложек

Поликор

Количество одновременно обрабатываемых подложек 48х60, шт.

65

Тип загрузки обрабатываемых подложек

Ручной

Внутренние размеры камеры вакуумной, Ø х H; мм:

620 х 550

Способ нанесения покрытия

Магнетронное распыление

Метод нанесения покрытия

Одностороннее напыление

Способ подготовки поверхности перед нанесением покрытия

Ионный источник очистки

Толщина наносимого покрытия

 

Тантал; мкм

до 0,6

Скорость нанесения покрытия

 

Тантал; мкм/мин, не менее

0,005

Разброс толщины наносимого покрытия, % не более

± 2

Методы контроля толщины покрытия:

По кварцевому датчику

По резистивному датчику

Максимальная температура нагрева подложек , °С

400

Разброс температур по карусели, °С не более

± 2

Точность установки температуры, °С

± 2

Режимы управления технологическим процессом:

Ручной

Автоматический

Предельное давление в чистой, сухой камере, Па, не более:

2×10-4

Время откачки до давления 2×10-4 Па, мин.  не более

30

Система охлаждения

Независимая, с рециркулятором

Габаритные размеры ВТО, м, не более: (длина × ширина × высота)

2,9×2,3×2,4

Масса, кг, не более:

1700

 

 

Также, вы можете ознакомится с другой установкой серии:

- Atis 500

Список продукции